E2V技术研讨会上海站成功召开

   日期:2020-04-29     浏览:144    评论:0    
核心提示:        继深圳首站后,上海作为“2012年E2V技术研讨会”的第二站,于2012年2月17日下午在上海复旦皇冠假日酒店召开。             2011年底,英国E2V公司经多年高端CMOS芯片研究,终于推出了其首款线阵CMOS芯片相机ELiixa+,其意义在于它舍弃常规曝光技术,打破原有高成本TDI相机方式,大胆采用了多线CMOS曝光技术,即:ICMOS技术,使CMOS相机灵敏度从此有了质的飞跃和提高。 在分辨率及速度参数上,ELiixa+均达到行业领先者地位, 即:
        继深圳首站后,上海作为“2012年E2V技术研讨会”的第二站,于2012年2月17日下午在上海复旦皇冠假日酒店召开。    

        2011年底,英国 E2V公司经多年高端CMOS芯片研究,终于推出了其首款线阵CMOS芯片相机ELiixa+,其意义在于它舍弃常规曝光技术,打破原有高成本TDI相机方式,大胆采用了多线CMOS曝光技术,即:ICMOS技术,使CMOS相机灵敏度从此有了质的飞跃和提高。 在分辨率及速度参数上, ELiixa+均达到行业领先者地位, 即:在高速采集的同时,依然保持高灵敏度、低噪声的性能。此外,在数据输出接口上采用了最新的CoaXpress技术,使数据传输率超过1.6Gpixel/s,从而确保该相机在采集速度上达到最大值。 而作为国内图像处理行业中的资深公司,北京三宝兴业(微视凌志)视觉技术有限公司与其代理品牌高端相机及芯片厂商英国E2V公司,借此契机特别策划和举办了“2012年E2V技术研讨会”,在深圳首站启动后,将上海作为探讨会的第二站,与机器视觉行业精英,并联合相关国际知名机器视觉厂商,继续深入探讨ELiixa+ 相机及其应用,以及2012年最新机器视觉趋势及技术解决方案。  

        会议开始首先由三宝兴业(微视凌志)上海办首席代表高炎先生向现场与会者做了简短的欢迎致辞及公司介绍       

       

              随后由E2V 亚太区市场经理 Kelvin Chang先生,继续带来精彩的讲解《机器视觉解决方案》及《Eliixa+ E2V Multi-line CMOS介绍》            E2V亚太像处理高级工程师John Lam先生技术演示及讲解,并针对与会者在现场提出的有关ELiixa+及线阵相机问题进行了耐心答疑  

            现场与会者积极提问中    

特邀讲师:Schneider亚太区经理 Dirk Muschert先生专程带来的《Schneider高分辨率线扫镜头 &Eliixa+系统搭配》,与会者认真聆听

最后,在三宝兴业(微视凌志)资深技术工程师《Matrox采集卡 Radient & Eliixa+系统搭配》议题中本场成功落幕。

在入场和茶歇时间,与会者都饶有兴致的观看了在样品体验区展示的 E2V公司最新相机系列产品及演示系统。   E2V最新相机系列产品陈列区 ELiixa+系统演示区   系统实时图像抓取效果         “ 2012年E2V技术研讨会”上海站得到了积极参与,人数突破首站达50人,这也是主办方未想到的,亚太区市场经理 Kelvin Chang先生高兴的说:“希望有机会把我们的研讨会继续办下去,且办得更好。” 上海站结束后,会议团队将稍事休息和调整,继续在中国巡回开讲,届时感性趣者可与 E2V中国区代理北京三宝兴业(微视凌志)视觉技术有限公司联系报名。       相关链接:     ELiixa+                                          

            
l   性能特点: CMOS 芯片,像素 4x16384,5 x 5μm l   数据接口: - 全 Cameralink接口(4,8,或10通道),85MHz/接口 - CoaXPress® (4x Links) l   线速率: - 使用 Cameralink 接口速率高达50000L/S                                                       - 使用 CoaXPress® 接口速率高达100000L/S 8,10或 12bits l 镜头接口                                                &nbs
 
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